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  • 供应用于镀膜优质4NTa钽靶材铬靶材锆靶材

  • 北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯钽靶材，溅射*高纯钽靶，高纯钽靶材及相关产品如下，1、高纯钽靶材的纯度为：99.9%，99.95%，99.99%，三种纯度。

    2、高纯钽靶的常用规格为：圆靶76.2*6.35，板靶：200*100*10mm等。

    3、高纯钽蒸发舟：300*100*0.2等，310#，308#，312#等。

    4、高纯钽粉末：20目-3000目。

    北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯铬靶，高纯铬靶材以及高纯铬相关产品，高纯铬靶材产品详情如下： 1、 高纯铬靶的纯度为：99.5%，99.8%，99.95%，99.99% 2、 高纯铬靶的常用规格：高纯铬管靶，高纯铬环靶，长度20-400mm,直径:50-120mm,管厚：5-10mm.铬管靶上面可等离子喷涂TiO2,TiB2,Ti3O5等，按您的要求定做。

    3、 高纯铬靶的生产工艺：热等静压，粉末冶金。

    4、 高纯铬颗粒：常用粒度有：1-3mm,3-5mm,40目，-20-300目，40#，60#，80#，200#等用于蒸发镀膜，纯度高，蒸镀效果好。

    5、 高纯铬条：0.3，0.5，1.0等。

    6、 高纯铬的相关参数：Formula: Cr 7、 外观：银灰色 8、 规格：粒、粉、靶材，条。

    9、 密度：7.2 10、 熔点：1890℃ 蒸发温度：Evaporation Temperture: 1430 ℃ 北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯锆靶材及锆的相关镀膜产品，主要包括： 1、 高纯锆靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯锆靶材。

    2、 高纯锆靶材纯度为：99.9%，99.95%,99.99%。

    3、 高纯锆靶材的规格：（1）平面靶材如100*5mm平面高纯圆锆靶，150*100*3平面高纯板锆靶材，（2）磁控溅射用高纯锆靶：100*120柱靶等。

    4、 高纯锆靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。

    5、 高纯锆靶材加工工艺：车，铣，等。

    以上是北京冠金利新材料科技有限公司对高纯锆靶的相关介绍，高纯锆靶材规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工，如有疑问，请来电咨询！ 北京冠金利新材料科技有限公司高纯单质溅射靶材 高纯铝靶材Al 高纯铜靶材Cu 高纯铁靶材Fe 高纯钛靶材Ti 高纯镍靶材Ni 高纯镁靶材Mg高纯铬靶材Cr 高纯锌靶材Zn 高纯银靶材Ag 高纯钴靶材Co 高纯铌靶材Nb 高纯锡靶材Sn 高纯铟靶材In 高纯锆靶材Zr 高纯钽靶材Ta 高纯锗靶材Ge 高纯硅靶材Si  高纯钨靶材W 高纯铪靶材Hf 高纯钇靶材Y 高纯钆靶材Gd 高纯钐靶材Sm 高纯镝靶材Dy 高纯铈靶材Ce 高纯镧靶材La 高纯金靶材Au 高纯不锈钢靶材 高纯石墨靶材C 高纯硒靶材Se高纯钼靶材Mo 高纯铂靶材Pt 高纯铅靶材Pb   高纯镨靶材Pr  高纯铽靶材Tb 高纯钬靶材Ho 高纯镱靶材Yb 高纯铥靶材Tm 高纯镥靶材Lu  高纯铒靶材Er 高纯钪靶材Sc 以上是北京冠金利新材料科技有限公司单质溅射靶材种类，根据金属靶材种类的不同，靶材所能达到的*纯度也不相同，纯度一般为99.9%-99.9999%之间，根据溅射设备的不同，以上靶材常用形状规格有圆靶、板靶、旋转柱靶、旋转管靶、圆台靶、阶梯靶等，可根据您的要求定做，如果您有以上靶材需要，请来电咨询，我们会用诚信和品质给您一个满意的答复。

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  • 状态：匆匆过客
  • 核实：        
  • IP属地：北京市