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  • 供应溅射银靶，金靶，铂靶溅射贵金属靶

  • 北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯金靶，高纯金靶材，金靶以及金靶的相关产品，产品规格如下： 1、 高纯金靶材的纯度为，99.9%，99.99%,99.999%,高纯金靶的分析单会在发货同时发出。

    2、 高纯平面金靶材的常用规格：100*4，168*3.5，400*100*6-13，等。

    3、 高纯磁控溅射金靶材常用规格：100*80，等。

    4、 高纯蒸发镀用金丝：直径0.3-5。

    5、 蒸发镀用高纯金粒：10*10，6*6，3*3，2*10等规格。

    6、 高纯金靶材的生产工艺为真空熔炼，粉末冶金，等静压等。

    北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯铂靶，高纯铂靶材，铂靶以及铂靶的相关产品，产品规格如下： 1、 高纯铂靶材的纯度为，99.9%，99.99%高纯铂靶的分析单会在发货同时发出。

    2、 高纯平面铂靶材的常用规格：100*4，168*3.5，400*100*6-13，等。

    3、 高纯磁控溅射铂靶材常用规格：100*80，等。

    4、 高纯蒸发镀用铂丝：直径0.3-5。

    5、 蒸发镀用高纯铂粒：10*10，6*6，3*3，2*10等规格。

    6、 高纯铂靶材的生产工艺为真空熔炼，粉末冶金，等静压等。

    北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯银靶材及银的相关镀膜产品，主要包括： 1、 高纯银靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯银靶材。

    2、 高纯银靶材纯度为：99.9%，99.99%。

    3、 高纯银靶材的规格：（1）平面靶材如100*5mm平面高纯圆银靶，150*100*3平面高纯板银靶材，（2）磁控溅射用高纯银靶：100*120柱靶等。

    4、 高纯银靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。

    5、 高纯银靶材加工工艺：车，铣，等。

    6、 高纯蒸发镀银丝常用规格：0.3，0.5，0.85，1.0，3.0等等 7、 高纯银粒：1-3，3-5，等等。

    8、 高纯银粉:50目到3000目。

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